中科院上海光机所EUV光源技术突破至3.42%效率,复旦大学成立光刻胶工程研究中心,推动国产化进程。日本Tekscend计划IPO募资数亿美元,日本政府投入40亿日元研发1nm技术。市场共识认为技术突破提振产业链信心,但高端光刻胶仍存差距,国产替代潜力显著。